气浮平台超精密机械中的一种典型结构,通过静压气浮隔离机械运动副之间的接触,提高平台机构运动精度,具有非常优秀的平面度、直线度,克服了传统机械定位台行程短,响应滞后大,摩擦阻力等不足。具有非常优秀的动态性能及极低的误差水平。
产品介绍
凭借多年的精密机械加工及装配经验,采用最优参数及合理的精度分配,掌握了气浮平台从设计到制造的全套技术,成功设计研发出多款气浮平台。ABLS-300气浮平台实现了长行程高精度与高速定位功能,在半导体光刻设备,精密测量和生物医学等领域中具有不可替代的作用。
应用领域
精密加工
精密测量
微电子制造业
光刻机平台
半导体加工业
扫描
产品特性
◆ 重复定位精度高
◆ 俯仰偏摆角度小
◆ 性能稳定
◆ 没有机械损耗
◆ “零”摩擦可使其进入纳米级应用
◆ 运动台与导轨使用同种材料,在温度变化较大的工况下不会出现气浮台常见的“抱死”现象。
技术参数
名称 | ABLS-300气浮平台 |
行程 | 300mm |
驱动方式 | 直线电机 |
电机连续/峰值推力 | 100N/400N |
反馈方式 | 光栅反馈系统 |
反馈系统分辨率 | 25nm |
最大速度 | 700mm/s |
最大加速度(空载) | 1g(无负载) |
最大负载 | 25kg |
精度 | ±1μm |
重复定位精度 | ±0.2μm |
直线度 | ±0.5μm |
平坦度 | ±0.5μm |
动态平坦度 | ±0.5μm |
偏摆 | 3 arc-sec
|
俯仰 | 3 arc-sec |
工作压力 | 4±0.3bar |
ABLS-300气浮平台将首次亮相于7月3至5日在国家会展中心举行的慕尼黑上海光博会。真挚的期待您和同事及行业友人共同参与,在展会现场与三英精控面对面共话行业热点。