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【新品速递】ABLS-300气浮平台

2017-11-07

气浮平台超精密机械中的一种典型结构,通过静压气浮隔离机械运动副之间的接触,提高平台机构运动精度,具有非常优秀的平面度、直线度,克服了传统机械定位台行程短,响应滞后大,摩擦阻力等不足。具有非常优秀的动态性能及极低的误差水平。

qtf.jpg  产品介绍
凭借多年的精密机械加工及装配经验,采用最优参数及合理的精度分配,掌握了气浮平台从设计到制造的全套技术,成功设计研发出多款气浮平台。
ABLS-300气浮平台实现了长行程高精度与高速定位功能,在半导体光刻设备,精密测量和生物医学等领域中具有不可替代的作用。

应用领域


精密加工

精密测量

微电子制造业

光刻机平台

半导体加工业

扫描





产品特性

◆ 重复定位精度高

俯仰偏摆角度小

性能稳定

没有机械损耗

“零”摩擦可使其进入纳米级应用

运动台与导轨使用同种材料,在温度变化较大的工况下不会出现气浮台常见的“抱死”现象。



技术参数


名称

ABLS-300气浮平台

行程

300mm

驱动方式

直线电机

电机连续/峰值推力

100N/400N

反馈方式

光栅反馈系统

反馈系统分辨率

25nm

最大速度

700mm/s

最大加速度(空载)

1g(无负载)

最大负载

25kg

精度

±1μm

重复定位精度

±0.2μm

直线度

±0.5μm

平坦度

±0.5μm

动态平坦度

±0.5μm

偏摆

3 arc-sec

俯仰

3 arc-sec

工作压力

4±0.3bar


ABLS-300气浮平台将首次亮相于7月3至5日在国家会展中心举行的慕尼黑上海光博会。真挚的期待您和同事及行业友人共同参与,在展会现场与三英精控面对面共话行业热点。



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